哈西奈德涂膜剂

地氯雷他定片

本品主要成分及其化学名称为：氯氟舒松。其化学名称为：21-氯-9-氟-11β，16α，17-三羟基孕甾-4-烯-3，20-二酮环-16，17-与丙酮结合成半缩醛。其结构式为：分子式为：C24H32CIFO5分子量为：454.97

地氯雷他定

天津金耀药业有限公司

Schering-Plough Labo N.V.

国药准字H10910061

H20140450

激素类药，适用于皮肤过敏性炎症的亚急性或慢性阶段，如湿疹、异位性皮炎、接触性皮炎等；非感染性皮肤病，如银屑病、神经性皮炎、结节性瘙痒等。

用于缓解慢性特发性荨麻疹及过敏性鼻炎的相关症状

涂于患处，每日1～2次。

成人及12岁或12岁以上的青少年：口服，每日一次，每次1片。进食不影响服药效果。

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副作用可能包括头痛、恶心、疲劳、口干、消化不良等。

儿童注意事项： 应为面积，短期应用，一旦消退迅速停药，一岁以内儿童尽量不用此药。 妊娠与哺乳期注意事项： 尚无人局部用药致畸作用的研究，妊娠期应慎用。外用经皮吸收大量时可从乳汁排泄，哺乳期慎用。 老人注意事项： 遵医嘱。

激素类药，适用于皮肤过敏性炎症的亚急性或慢性阶段，如湿疹、异位性皮炎、接触性皮炎等；非感染性皮肤病，如银屑病、神经性皮炎、结节性瘙痒等。

用于缓解慢性特发性荨麻疹及过敏性鼻炎的相关症状

本品为肾上腺皮质激素类药物，局部外用具有抗炎、抗过敏及抗瘙痒作用。

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1. 孕妇和哺乳期妇女慎用；2. 严重肝肾功能不全者慎用；3. 心脏病患者慎用；4. 避免与酒精同时服用；5. 如出现过敏反应应立即停药。