哈西奈德涂膜剂

新霉素氟轻松乳膏

本品主要成分及其化学名称为：氯氟舒松。其化学名称为：21-氯-9-氟-11β，16α，17-三羟基孕甾-4-烯-3，20-二酮环-16，17-与丙酮结合成半缩醛。其结构式为：分子式为：C24H32CIFO5分子量为：454.97

本品为复方制剂，其组分为：每克含硫酸新霉素3500单位，醋酸氟轻松0.25mg，冰片5mg。化学名：硫酸新霉素分子式：C23H48N6O17S分子量：712.7222

天津金耀药业有限公司

天津市天骄制药有限公司

国药准字H10910061

国药准字H12021177

激素类药，适用于皮肤过敏性炎症的亚急性或慢性阶段，如湿疹、异位性皮炎、接触性皮炎等；非感染性皮肤病，如银屑病、神经性皮炎、结节性瘙痒等。

用于过敏性皮炎，亚急性慢性湿疹，阴囊湿疹，皮肤瘙痒症和外阴瘙痒等。

涂于患处，每日1～2次。

外用。涂于皮肤患处，一日2～3次。

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1.对本品任何成份过敏者禁用。2.眼部禁用。

儿童注意事项： 应为面积，短期应用，一旦消退迅速停药，一岁以内儿童尽量不用此药。 妊娠与哺乳期注意事项： 尚无人局部用药致畸作用的研究，妊娠期应慎用。外用经皮吸收大量时可从乳汁排泄，哺乳期慎用。 老人注意事项： 遵医嘱。

激素类药，适用于皮肤过敏性炎症的亚急性或慢性阶段，如湿疹、异位性皮炎、接触性皮炎等；非感染性皮肤病，如银屑病、神经性皮炎、结节性瘙痒等。

用于过敏性皮炎，亚急性慢性湿疹，阴囊湿疹，皮肤瘙痒症和外阴瘙痒等。

本品为肾上腺皮质激素类药物，局部外用具有抗炎、抗过敏及抗瘙痒作用。

1.长期和大面积应用，可引起皮肤萎缩、毛细血管扩张、发生痤疮样皮炎、口周皮炎、毛囊炎、增加感染的易感性等。2.偶可引起变态反应性接触性皮炎。

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1.本品不能长期、大面积使用。2.应用于面部及皮肤皱褶部位应慎重权衡利弊。3.新霉素与庆大霉素有交叉过敏。