哈西奈德乳膏

醋酸地塞米松乳膏

本品主要成份为哈西奈德

本品主要成份醋酸地塞米松C。

海南制药厂有限公司制药一厂

广东华润顺峰药业有限公司

国药准字H20046202

国药准字H44021271

适用于接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品主要用于过敏性和自身免疫性炎症性疾病。如局限性瘙痒症，神经性皮炎，接触性皮炎，脂溢性皮炎，慢性湿疹等。

外涂患处，每日早晚各一次。

涂患处，一日2～3次。

1.对该药过敏者。2.由细菌、真菌、病毒和寄生虫引起的原发性皮肤病变。3.溃疡性病变。痤疮、酒渣鼻。4.眼睑部用药(有引起青光眼的危险)。5.渗出性皮肤病。

真菌性或病毒性皮肤病禁用，对本药及其他皮质类固醇过敏者禁用。

适用于接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品主要用于过敏性和自身免疫性炎症性疾病。如局限性瘙痒症，神经性皮炎，接触性皮炎，脂溢性皮炎，慢性湿疹等。

少数患者涂药部位的皮肤发生烧灼感、刺痛、暂时性瘙痒，长期应用可发生皮肤毛细血管扩张、皮肤萎缩、萎缩纹皮肤萎缩后继发紫癜、瘀斑、皮肤脆弱、多毛症、毛囊炎、粟丘疹、皮肤脱色、延缓溃疡愈合，封包法在皮肤皱褶部位容易继发真菌感染。经皮肤吸收多时，可发生全身性不良反应。

长期大量使用可继发细菌、真菌感染，局部可发生痤疮、酒渣样皮炎、皮肤萎缩及毛细血管扩张，并可有瘙痒、色素沉着、颜面红斑、创伤愈合障碍等反应。

大面积大量用药或封包方式可使经皮吸收多，可发生全身反应，尤其是低龄儿童和婴幼儿，出现可逆行柯兴氏征及生长迟缓，突然停药可出现急性肾上腺皮质功能不全。出现局部不耐受现象，应停药并寻找原因。警惕留在皮肤皱褶部位和尿布中的药物可吸收入体内。 请仔细阅读说明书并遵医嘱使用。

1.并发细菌及病毒感染时，应与抗菌药物合用。2.不能长期大面积应用。