哈西奈德乳膏

新霉素氟轻松乳膏

本品主要成份为哈西奈德

本品为复方制剂，其组分为：每克含硫酸新霉素3500单位，醋酸氟轻松0.25mg，冰片5mg。化学名：硫酸新霉素分子式：C23H48N6O17S分子量：712.7222

海南制药厂有限公司制药一厂

广东华润顺峰药业有限公司

国药准字H20046202

国药准字H44024212

适用于接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于过敏性皮炎，亚急性慢性湿疹，阴囊湿疹，皮肤瘙痒症和外阴瘙痒等。

外涂患处，每日早晚各一次。

外用。涂于皮肤患处，一日2～3次。

1.对该药过敏者。2.由细菌、真菌、病毒和寄生虫引起的原发性皮肤病变。3.溃疡性病变。痤疮、酒渣鼻。4.眼睑部用药(有引起青光眼的危险)。5.渗出性皮肤病。

1.对本品任何成份过敏者禁用。2.眼部禁用。

适用于接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于过敏性皮炎，亚急性慢性湿疹，阴囊湿疹，皮肤瘙痒症和外阴瘙痒等。

少数患者涂药部位的皮肤发生烧灼感、刺痛、暂时性瘙痒，长期应用可发生皮肤毛细血管扩张、皮肤萎缩、萎缩纹皮肤萎缩后继发紫癜、瘀斑、皮肤脆弱、多毛症、毛囊炎、粟丘疹、皮肤脱色、延缓溃疡愈合，封包法在皮肤皱褶部位容易继发真菌感染。经皮肤吸收多时，可发生全身性不良反应。

1.长期和大面积应用，可引起皮肤萎缩、毛细血管扩张、发生痤疮样皮炎、口周皮炎、毛囊炎、增加感染的易感性等。2.偶可引起变态反应性接触性皮炎。

大面积大量用药或封包方式可使经皮吸收多，可发生全身反应，尤其是低龄儿童和婴幼儿，出现可逆行柯兴氏征及生长迟缓，突然停药可出现急性肾上腺皮质功能不全。出现局部不耐受现象，应停药并寻找原因。警惕留在皮肤皱褶部位和尿布中的药物可吸收入体内。 请仔细阅读说明书并遵医嘱使用。

1.本品不能长期、大面积使用。2.应用于面部及皮肤皱褶部位应慎重权衡利弊。3.新霉素与庆大霉素有交叉过敏。