氧氟沙星乳膏

哈西奈德乳膏

本品主要成分为氧氟沙星。其化学名为(±)-9-氟-2，3-二氢-3-甲基-10-（4-甲基-1-哌嗪基）-7-氧代-7H–吡啶并[1，2，3-de]-[1，4]苯并恶嗪-6-羧酸。

哈西奈德。化学名：16a，17-[(1-甲基亚乙基)双(氧)]-11β-羟基-21-氯-9-氟孕甾-4-烯-3，20-二酮。

浙江得恩德制药股份有限公司

天津太平洋制药有限公司

国药准字H10960031

国药准字H12020812

用于治疗敏感菌引起的脓疱疮、疥疮、毛囊炎、湿疹合并感染、外伤感染、癣病合并感染及其他化脓性皮肤感染等。

接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

外用。涂于患处，一日2～3次。

外涂患处，每日早晚各一次。

对本品及氟喹诺酮类药过敏的患者禁用。

少数患者涂药部位的皮肤发生烧灼感、刺痛、暂时性瘙痒，长期应用可发生皮肤毛细血管扩张(尤其面部)、皮肤萎缩、萎缩纹(青少年易发生)皮肤萎缩后继发紫癜、瘀斑、皮肤脆弱、多毛症、毛囊炎、粟丘疹、皮肤脱色、延缓溃疡愈合，封包法在皮肤皱褶部位容易继发真菌感染。经皮肤吸收多时，可发生全身性不良反应(参看注意事项)。

用于治疗敏感菌引起的脓疱疮、疥疮、毛囊炎、湿疹合并感染、外伤感染、癣病合并感染及其他化脓性皮肤感染等。

接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

1.偶有轻微刺激感。但不影响继续治疗和疗效。 2.过敏反应：皮疹、皮肤瘙痒，偶可发生渗出性多形性红斑及血管神经性水肿。

1.使用中若出现过敏症状应立即停药。 2.严重肾功能不全者慎用。

1. 避免接触眼睛和其他黏膜；2. 孕妇和哺乳期妇女慎用；3. 儿童使用需遵医嘱；4. 皮肤破损处不宜使用；5. 使用期间如出现过敏反应应立即停药。